Skip to main content
產品介紹

特用化學品及特殊氣體

By 24 8 月, 2022No Comments

台特化特殊氣體

價值 • 綠能 • 尖端 • 創新

 

產品規格

主要用於微型化(Miniaturized)半導體製程中之快速且低溫沉積均勻薄膜,例如14奈米(nm)以下節點製程之積體電路,先進隨機存取記憶體及快閃記憶體(DRAM/NAND Flash)。
另也有以添加矽乙烷混氣方式應用於高階太陽能電池、TFT-LCD面板及LED等方面的應用上。

產品應用

  • Si2H6與SiH4基本化性質相近,但Si2H6反應性比SiH4更具優勢。
  • 在LPCVD製程中,採Si2H6,其沉積速率比SiH4提升約10倍,可縮短製程時間,提升生產效率。
  • 採用Si2H6在純a-Si薄膜沉積及低溫多晶矽(LTPS)製程之成膜溫度可比SiH4降低約100°C,大幅提高熱預算(Therma Budget),是為次世代科技產品開發之關鍵用料。

安全規範

完備的資訊系統&管理制度

  • 取得ISO 9001國際品保認證。
  • 建置ERP系統。
  • 建立內控制度。
  • 目標管理暨績效獎勵制度建立。

優於安全及環保法規之規範

  • 取得OHSAS 18001 職安衛安全認證