我們的靶材擁有良好的晶相及均勻性，除了按規格品製作及生產外，更可配合客戶端需求，進行客製化開發及量產。
- 靶材是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料，材料純度依照不同應用領域的需求而有差別。
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靶材通常為高純度陶瓷、純金屬或合金，尺寸及構型主要根據濺鍍設備的規格而定。
| 目前主要靶材產品組合及規格 | |
| 平面靶-純金屬靶材 | Al、Cu、Cr、Mo、Nb、Ni、Si、Ti、Ta、W |
| 平面靶-合金靶材 | AlNd、AlNiLa、AlNiCuLa、AZO、ITO、MoLa、MoNb、MoW、NiAl、NiCr、Niv、NiCu、NiMo、SiAl、TiAl、ZnAl、ZnSn |
| 圓柱靶 / 旋轉靶 | Ag、Al、AlNd、Cu、Cr、ITO、Mo、MoNb、Nb、NbOx、Ni、Niv、 Si、SiAl、Sn、Ti、TiOx、Ta、W、ZnAl、ZnSn |
| 若有其他需求，歡迎來電洽詢 | |