主要用於微型化(Miniaturized)半導體製程中之快速且低溫沉積均勻薄膜,例如14奈米(nm)以下節點製程之積體電路,先進隨機存取記憶體及快閃記憶體(DRAM/NAND Flash)。 另也有以添加矽乙烷混氣方式應用於高階太陽能電池、TFT-LCD面板及LED等方面的應用上。