• 在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上，形成一層薄膜。
• 依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性薄膜的材料。主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外，樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。

我們的材料擁有良好穩定的物相，保證鍍膜過程的穩定性，
除了按規格品製作及生產外，更可配合客戶端需求，進行客製化開發及量產。

精密光學元件的要求不斷提高，對鍍膜材料的性能指標要求越來越高：

• 顆粒料表面處理
• 雜質含量：雜質少（鍍膜後不會在薄膜表面出現顆粒點）
• 密度：密度大（材料中的空隙少，可減少預熔時間，避免噴濺）
• 相純：單相性好（無雜相，材料穩定好）
• 放氣量：放氣量小（雜質熔化時，放氣量小會減少噴濺，鍍膜可操作性好）
• 膜層牢固度：膜層牢固（膜層與基材的牢固度，和膜料、鍍膜工藝有關）
• 鍍膜過程的可控性：蒸發速率的穩定性、批次穩定性等