蒸鍍材料

•  在達真空的容器中、將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華、並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上,形成一層薄膜。

•  依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產生光學特性

   薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹脂與玻璃也可以使用、近年來連紙也變成可蒸鍍。


我們的材料擁有良好穩定的物相,保證鍍膜過程的穩定性,除了按規格品製作及生產外,更可配合客戶端需求,進行客製化開發及量產。




 目前主要產品組合及規格 

 

蒸鍍材料(AR)

高折射率

Ta2O5-xTi3O5-xLa2Ti2O7-x..

中折射率

Al2O3La2O3+Al2O3

低折射率

SiO2MgF2SiAl

若有其他需求,歡迎來電洽詢

                                                      

                                                         精密光學元件的要求不斷提高,對鍍膜材料的性能指標要求越來越高:

                                                         • 顆粒料表面處理

                                                         • 雜質含量:雜質少(鍍膜後不會在薄膜表面出現顆粒點)

                                                         • 密度:密度大(材料中的空隙少,可減少預熔時間,避免噴濺)

                                                         • 相純:單相性好(無雜相,材料穩定好)

                                                         • 放氣量:放氣量小(雜質熔化時,放氣量小會減少噴濺,鍍膜可操作性好)

                                                         • 膜層牢固度:膜層牢固(膜層與基材的牢固度,和膜料、鍍膜工藝有關)

                                                         • 鍍膜過程的可控性:蒸發速率的穩定性、批次穩定性等 

蒸鍍材料