濺鍍靶材

     

  • 靶材是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料,材料純度依照不同應用領域的需求而有差別。
  • 靶材通常為高純度陶瓷、純金屬或合金,尺寸及構型主要根據濺鍍設備的規格而定。

  


我們的靶材擁有良好的晶相及均勻性,除了按規格品製作及生產外,更可配合客戶端需求,進行客製化開發及量產。




目前主要產品組合及規格 

 

     

平面靶-純金屬靶材

AlCuCrMoNbNiSiTiTaW

平面靶-合金靶材

AlNdAlNiLaAlNiCuLaAZOITOMoLaMoNbMoWNiAlNiCrNivNiCuNiMoSiAlTiAlZnAlZnSn

 圓柱靶 / 旋轉靶

AgAlAlNdCuCrITOMoMoNbNbNbOxNiNivSiSiAlSnTiTiOxTaWZnAlZnSn

若有其他需求,歡迎來電洽詢

 

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